Atnaujintas knygų su minimaliais defektais pasiūlymas! Naršykite ČIA >>

0 Mėgstami
0Krepšelis

Guilei Wang

Rasta: 2
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
  • Nemokamas pristatymas
-22% su kodu: BOOKS
132,12 
169,38 
Išsiųsime per 11-15 d. d.
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
  • Nemokamas pristatymas
-22% su kodu: BOOKS
Knyga minkštu viršeliu
(0)
132,12 
169,38 
Išsiųsime per 11-15 d. d.
Rasta: 2